常见的专利结构是什么(常见的专利结构是什么？)

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常见的专利结构包括：发明专利：保护一种全新的技术或方法，具有创新性和实用性。实用新型专利：保护一种新的产品、设备或者工具，具有实用性和新颖性。外观设计专利：保护产品的外观设计，具有新颖性和美观性。植物新品种专利：保护新的植物品种，具有创新性和实用性。集成电路布图设计专利：保护集成电路的布图设计，具有创新性和实用性。

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常见的专利结构主要包括以下几种：发明专利：发明专利是指对产品、方法或其改进所提出的新技术方案。发明专利的保护期为20年，自申请日起计算。实用新型专利：实用新型专利是指对产品的形状、构造或者其结合所提出的适于实用的新技术方案。实用新型专利的保护期为10年，自申请日起计算。外观设计专利：外观设计专利是指对产品的外观设计所提出的新技术方案。外观设计专利的保护期为10年，自申请日起计算。植物新品种权：植物新品种权是指对植物品种的育种人授予的一种独占性权利。植物新品种权的保护期为20年，自授权公告之日起计算。集成电路布图设计专有权：集成电路布图设计专有权是指对集成电路的布图设计所授予的一种独占性权利。集成电路布图设计的保护期为10年，自申请日起计算。

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常见的专利结构包括：发明专利：发明人或设计人对某一技术方案进行创新，并申请专利保护。发明专利的保护期限为20年。实用新型专利：对产品的形状、构造或者其结合所提出的适于实用的新的技术方案，可以申请实用新型专利保护。实用新型专利的保护期限为10年。外观设计专利：对产品的形状、图案或者其结合以及色彩与形状、图案的结合所作出的富有美感并适用于工业应用的新设计，可以申请外观设计专利保护。外观设计专利的保护期限为10年。植物新品种权：对植物品种进行育种和繁殖，并申请专利保护。植物新品种权的保护期限为20年。集成电路布图设计专有权：对集成电路芯片的布局、连接方式等进行创新，并申请专利保护。集成电路布图设计的保护期限为10年。

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