企业专利包括什么类型

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企业专利包括以下几种类型：发明专利：发明专利是指对企业在技术创新方面取得的具有新颖性、创造性和实用性的技术方案进行保护的法律形式。发明专利的保护期限为20年，自申请日起计算。实用新型专利：实用新型专利是指对企业在产品结构或者形状、材料以及组合方式等方面进行创新的技术方案进行保护的法律形式。实用新型专利的保护期限为10年，自申请日起计算。外观设计专利：外观设计专利是指对企业产品的外观设计进行创新的法律形式。外观设计专利的保护期限为10年，自申请日起计算。软件专利：软件专利是指对企业开发的计算机软件程序进行保护的法律形式。软件专利的保护期限为20年，自申请日起计算。集成电路布图设计专利：集成电路布图设计专利是指对企业设计的集成电路电路图案进行保护的法律形式。集成电路布图设计专利的保护期限为10年，自申请日起计算。商业方法专利：商业方法专利是指对企业在经营活动中采用的商业策略、经营模式、管理方法等进行保护的法律形式。商业方法专利的保护期限为20年，自申请日起计算。植物新品种权：植物新品种权是指对企业培育的具有特定经济价值和生态价值的植物新品种进行保护的法律形式。植物新品种权的保护期限为20年，自授权登记之日起计算。地理标志产品保护：地理标志产品保护是指对企业生产的具有特定地域特色的农产品、食品等进行保护的法律形式。地理标志产品的保护期限为10年，自申请注册之日起计算。

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企业专利包括以下类型：发明专利：发明专利是指对产品、方法或者其改进所提出的新的技术方案。发明专利的申请通常需要经过初步审查、实质审查和授权三个阶段。实用新型专利：实用新型专利是指对产品的形状、构造或者其组合所提出的新的技术方案。实用新型专利的申请通常需要经过初步审查和授权两个阶段。外观设计专利：外观设计专利是指对产品的外观设计所提出的新的设计。外观设计专利的申请通常需要经过初步审查和授权两个阶段。植物新品种权：植物新品种权是指对新的植物品种所提出的新的育种成果。植物新品种权的申请通常需要经过初步审查和授权两个阶段。集成电路布图设计权：集成电路布图设计权是指对集成电路的布图设计所提出的新的设计。集成电路布图设计的申请通常需要经过初步审查和授权两个阶段。商业秘密：商业秘密是指不为公众所知悉，且能为权利人带来经济利益，具有实用性并经权利人采取保密措施的技术信息和经营信息。商业秘密的保护期限为20年，自权利人知道或应当知道其权利受到侵害之日起计算。软件著作权：软件著作权是指软件开发者对其开发完成的计算机软件享有的专有权利。软件著作权的保护期限为50年，自软件开发完成之日起计算。

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企业专利通常包含以下类型：发明专利：这是最常见的专利类型，它要求发明具有新颖性、创造性和实用性。发明人必须能够提供足够的证据来证明他们的发明是前所未有的，并且具有实际应用价值。实用新型专利：这种类型的专利适用于那些具有实用价值的非复杂发明，如机器、设备或工具的设计。这些发明通常需要满足一定的技术规格，但不一定需要高度的创新性。外观设计专利：这种类型的专利适用于产品的外观设计，包括形状、图案或颜色等。外观设计专利的目的是保护产品的视觉吸引力，防止他人未经授权使用相似的设计。植物新品种专利：这类专利保护的是植物品种的繁殖材料，如种子或植株。它们旨在确保育种者对其新品种的独特性和商业潜力享有专有权。集成电路布图设计专利：这种专利保护的是集成电路（IC）的布图设计，即电路的布局和连接方式。布图设计专利的目的是防止他人复制或模仿特定的集成电路设计。软件专利：这种类型的专利保护的是计算机程序、固件或相关文档，如源代码或算法。软件专利的目的是确保开发者对其软件产品的独特性和商业价值享有专有权。生物技术专利：这种类型的专利保护的是生物体的遗传物质或其表达方式，如基因序列或蛋白质结构。生物技术专利的目的是确保研究者对其生物创新成果享有专有权。地理标志产品专利：这种类型的专利保护的是具有特定地理来源的产品，如葡萄酒、茶叶或香料等。地理标志产品专利的目的是确保消费者能够识别并区分来自特定地理区域的优质产品。

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